Control de Proceso 555 automático y preciso de cloro en potables y residuos el agua es más importante que nunca debido a la salud y la regulación preocupaciones El mal control puede llevar a cabo al fracaso de las pruebas de biomonitoreo lo que lleva a una “evaluación de reducción de toxicidad “aún más costosa.

El control de Proceso 555 es una manera rentable de actualizar los procesos de cloración y declaración en un paquete de 1/4 DIN de fácil uso y robusto los controles de Proceso 555 se puede configurar fácilmente para manejar el control proporcional de flujo, residual control, control de bucle compuesto con tiempos de demora y declaración Con dióxido de azufre.

Diseñado con las necesidades de la industria del agua y aguas residuales en serio, el control de Proceso 555 ofrece características que lo diferencian de la competencia el panel frontal tiene clasificación NEMA 4X para protección contra el agua y corrosión. La pantalla fluorescente de vacío es brillante y nítida, ofreciendo la mejor legibilidad en todas las condiciones de luz. Todas las indicaciones se muestra en inglés llano con dos pantallas totalmente alfanuméricas. Una pantalla extra grande está dedicada a indicar una de las variables medidas. Al realizar la estimulación de flujo de bucle compuesto control, el control de Proceso 555 muestra claramente tanto el caudal como el cloro residual simultáneamente. Las robustas teclas de goma son grandes y están retroiluminadas con excelente tacto táctil.

El control de Proceso 555 está diseñado para integrarse rápidamente con sus transmisores de flujo y analizadores de residuos a través del menú de configuración directa trozos escogidos.

El control automático y preciso del cloro en aguas potables y residuales es más importante que nunca debido a preocupaciones sanitarias y regulatorias. Pobre el control puede llevar al fracaso de las pruebas de biomonitoreo, lo que lleva a una mayor “Evaluación de reducción de toxicidad” costosa. El control de Proceso 555 es una manera rentable de actualizar los procesos de cloración y decloración de forma fácil de usar, paquete de tamaño 1/4 DIN resistente. El control de Proceso 555 se puede configurar fácilmente para manejar el flujo control proporcional, control residual, control de bucle compuesto con tiempos de demora, y decloración con dióxido de azufre.

Diseñado teniendo en cuenta las necesidades de la industria de agua y aguas residuales, el control de Proceso 555 ofrece características que lo distinguen de la competencia. El panel frontal es clasificación NEMA 4X para protección contra el agua y la corrosión. La pantalla fluorescente de vacío es brillante y nítida, ofreciendo la mejor legibilidad con toda la luz condiciones Todas las indicaciones se muestran en términos fáciles de entender, con dos pantallas totalmente alfanuméricas. Una tercera pantalla extra grande está dedicada a indicando una de las variables medidas. Al realizar un bucle compuesto control de estimulación de flujo, el control de Proceso 555 muestra claramente tanto el caudal como el residual nivel de cloro a la vez. Las robustas teclas de goma son grandes y están retroiluminadas con excelente tacto táctil.

El control de Proceso 555 está diseñado para integrarse rápidamente con sus transmisores de flujo y analizadores de residuos a través de selecciones de configuración de menú directo.

Hay 3 “modos” de operación para el Control de Proceso 555:

OPERANDO, el modo por defecto del controlador. Mientras que el Control de Proceso 555 está “funcionando” puede cambiar los puntos de ajuste de dosis, seleccionar el control manual y cambiar el nivel de salida, reconocer alarmas y monitorear condiciones.

CONFIGURACIÓN, a veces denominada “configuración”. En la configuración, configura Funciones básicas del instrumento tales como asignaciones de entrada y salida, alarma tipos y funciones especiales.

TUNING, donde configura los parámetros de la función de control para Residual y control de bucle compuesto. Utilice la función de ajuste periódicamente para optimizar el rendimiento del Control de Proceso 555.

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